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處理器芯片如何制作?

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樓主
發(fā)表于 2018-12-13 16:19 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式 | 來自云南

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沙發(fā)
發(fā)表于 2018-12-13 16:19 | 只看該作者 | 來自江蘇

圖不是很清晰易懂,太難找了,不過后文會盡量交代清楚。
我們先要明確的是芯片從晶圓上切割而來,制造晶圓需要晶棒(硅碇),制作晶棒的材料是硅。
將采集的精度硅原料在高溫下整形,通過旋轉拉伸的方式得到一個圓柱狀的硅碇,接著經歷切邊、圓邊、研磨、拋光、拋光、包裝等多道工序,形成符合要求的晶棒。

接著要生產晶圓,即把晶棒切成片。切片越薄,越省材料,就可以得到更多處理器芯片。之后要在切片上摻入一些物質使之成為半導體材料,而后再在上面刻劃各種代表邏輯功能的晶體管電路。還要在切好的晶圓上制作電路和電子元件。
第三步是晶圓鍍膜,通常的工藝是將每一個切片放入高溫爐中加熱,通過控制加溫時間使得切片表面生成一層二氧化硅膜。
第四步是晶圓的顯影和蝕刻。在晶硅片上涂上光致抗蝕劑抗實際(由感光樹脂、增感劑(見光譜增感染料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應,使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化),使其遇紫外線溶解,用上第一份具有一定形狀的遮光物,使得紫外線直射的部分被溶解,沖走溶解的部分,剩下的部分就和遮光物形狀一致,得到我們想要的效果,就是我們需要的二氧化硅層。
同樣的方法,在剛制好的二氧化硅層上制造多晶硅層,再進行涂光致抗蝕劑——放遮光物——溶解等操作,又制成一個多晶硅層。
第五步是摻雜。在晶圓上植入離子,也就是在上面加入其他化學材料,生成相應的P、N類半導體。具體流程是:從硅片上已經暴露的區(qū)域開始,倒入化學離子混合液。這一工藝將改變摻雜區(qū)的導電方式,使每個晶體管可以通,斷,或攜帶數據,重復此工藝多次,以制成該CPU的多層。
加入一個二氧化硅層,然后光刻一次,重復這些步驟,就會出現一個多層立體架構,這就是處理器的雛形了。
經過這么多工序,在晶圓上形成了了一個個小小的格子,即晶粒。用針測儀檢測每個晶粒的電氣特征,并將不合格的晶粒標上記號。


然后就是切割封裝了。把一粒粒晶粒切出來,按電氣特征分類裝入托盤,不合格的扔掉。將單個晶粒固定在塑膠或陶瓷制的芯片基座上。并把晶粒上蝕刻出的一些引接線與基座底部的插腳鏈接,作為與外界電路板連接用,最后蓋上塑膠蓋板,用膠水封死,以保護晶粒免受傷害,再進行一層塑料封裝就能制程一塊集成電路芯片。
第八步是測試,分為一般和特殊測試,特殊測試是根據客戶需求的技術參數從相近參數規(guī)格、品種中拿出部分芯片,做針對性的測試,看能否滿足客戶特殊需求,以決定是否為客戶專門設計芯片。一般測試是將其至于各種環(huán)境進行電氣特征測試,如消耗功率,運行速度,耐壓度等。
測試合格產品貼上各種標簽就可以包裝出廠了,未通過測試的則視其參數情況定為降級品或廢品。
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